「回折限界を”超越する”とは何を意味するのでしょうか。光学系において、物体の解像度Rは、光の波長λに比例し、一方で対物レンズの開口数（NA：NumericalAperture）には反比例します。その関係性はR＝k1・λ/NAと表されます。具体的には、波長193nmのArFエキシマレーザと、NA0.75のレンズを用いて、k1を0.35と設定した際に、解像度90nmを得られます。これは、波長限界を下回るパターンを描く技術を表しています。k1を減少させるための戦略には、「位相シフトマスク」や「多層レジスト」のような技術があり、一方、NAを増加させる効果的な方法には投影レンズとウェハの間を水（屈折率n＝1.44）で満たす「液浸露光技術」が挙げられます。」
超解像とは
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- 位相シフトマスク, 光学系, 波長, 液浸露光技術, 解像度
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