電子線露光とは、もしくはEB露光とも呼ばれ、IC製造過程において、ウェハー上に塗られた感光性樹脂であるレジストにパターンを描く一つの露光技術です。これはマスクの作成にも使用されています。電子ビームが動く方法、つまり描画方式には、ラスタ走査方式とベクタ走査方式の二つが存在します。ベクタ走査方式では、スループットを向上させるために、電子ビームを長方形や三角形に変える可変形電子ビーム露光装置が用いられます（これはマスク描画用です）。その他に、ウェハー上に直接電子ビームを用いてパターンを露光する電子ビーム直接描画（ML2：Mask-Less Lithography）装置もあり、これには一本の鏡筒を用いるブロック露光方式とマルチビーム方式があります。
