特性優れた高誘電率膜というのは、SiO2などよりも大幅に高い誘電率を誇る薄型誘電体です。微細化が進展し続けるICのコンパクトなキャパシターやメモリーセルの材料として、その開発は急ピッチで進行しています。その代表的なものとして、ハフニウム（Hf）系の材料が存在します。’
特性優れた高誘電率膜というのは、SiO2などよりも大幅に高い誘電率を誇る薄型誘電体です。微細化が進展し続けるICのコンパクトなキャパシターやメモリーセルの材料として、その開発は急ピッチで進行しています。その代表的なものとして、ハフニウム（Hf）系の材料が存在します。’
