フォトマスクは、光の位相や透過率を調節することにより、画質やフィールドの深さ(DOF:Depth Of Field)を向上させ、転写特性を最適化。これはレーザーの露光波長以下のリソグラフィーに標準的に使用され、”ハーフトーン型”(Attenuated PSM)や”レベンソンマスク”(Alternative PSM)などと呼ばれています。それに対して、光を通す/ブロックするという機能だけを持つ従来のフォトマスク(クロムマスク)は、「バイナリマスク」と称されています。’
位相シフトマスクとは
Warning: Undefined array key "show_ad1_introduce" in /home/oinsight/by-intersect.jp/public_html/r31.by-intersect.jp/wp-content/themes/child_gensen_tcd050/single-introduce.php on line 111
Warning: Undefined array key "show_author_introduce" in /home/oinsight/by-intersect.jp/public_html/r31.by-intersect.jp/wp-content/themes/child_gensen_tcd050/single-introduce.php on line 171
- ハーフトーン型, バイナリマスク, フォトマスク, リソグラフィ, レベンソンマスク
Warning: Undefined array key "show_author_introduce" in /home/oinsight/by-intersect.jp/public_html/r31.by-intersect.jp/wp-content/themes/child_gensen_tcd050/single-introduce.php on line 173
Warning: Undefined array key "show_ad2_introduce" in /home/oinsight/by-intersect.jp/public_html/r31.by-intersect.jp/wp-content/themes/child_gensen_tcd050/single-introduce.php on line 212



