「シリコン素子上への光素子の形成技術」とは、受光素子や発光素子、光変調器、光導波路等の光素子をシリコン素子上に作り出す技術のことを言います。これまでの光素子は多くの場合、Ⅲ-Ⅴ族系半導体を用いて製造されていましたが、シリコンプロセスを利用して光素子を製造することが可能になれば、その結果、集積化の実現が容易になり、製造コストの削減も期待できます。
「シリコン素子上への光素子の形成技術」とは、受光素子や発光素子、光変調器、光導波路等の光素子をシリコン素子上に作り出す技術のことを言います。これまでの光素子は多くの場合、Ⅲ-Ⅴ族系半導体を用いて製造されていましたが、シリコンプロセスを利用して光素子を製造することが可能になれば、その結果、集積化の実現が容易になり、製造コストの削減も期待できます。
