“IC製作における優れた助けとなる、縮小投影露光装置について紹介します。主に、マスクパターンをウェハ上に小さく投影して転写するための道具として使用されます。この装置の名前は、縮小転写によりレティクル（またはマスク）を繰り返しウェハ上に投影するステップ・アンド・リピートプロセスに由来しています。露光光源としては、波長436nmのg線（可視光）、波長365nmのi線（紫外線）、などが含まれ、特別な装置としてはKrF（波長248nm）、ArF（波長193nm）のエキシマレーザが使われます。縮小時の比率には様々なものがあり、例えば4：1、5：1、10：1等が可能です。最新の傾向としては、縮小投影レンズをステージと連動させて移動させ、連続的にマスクを走査する「スキャナ式」のステッパに取って代わられつつあります。”
