化学蒸着法(CVD)の一種で、「熱化学的気相成長法」とも呼ばれています。この手法では、200℃から900℃の温度でウェハや膜堆積用材料ガスを加熱し、イオンラジカル等を引き出します。これにより、ウェハとの化学反応を誘発して成膜します。成膜プロセスの圧力は、常圧CVDと減圧CVDの二つに分類されます。’
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化学蒸着法(CVD)の一種で、「熱化学的気相成長法」とも呼ばれています。この手法では、200℃から900℃の温度でウェハや膜堆積用材料ガスを加熱し、イオンラジカル等を引き出します。これにより、ウェハとの化学反応を誘発して成膜します。成膜プロセスの圧力は、常圧CVDと減圧CVDの二つに分類されます。’
