低誘電率膜とは、主にIC内の絶縁部分に使用される特殊な膜です。一般的な絶縁膜である二酸化シリコン（SiO2、比誘電率約4）よりも、比誘電率が低い特性を持つこの膜のことを指します。これは、多層配線による信号の遅延を防ぐために使用されます。この低誘電率膜には、有機物からポーラス（多孔質）材料など、さまざまな素材や薄膜が用いられており、その開発は常に進行しています。’
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低誘電率膜とは、主にIC内の絶縁部分に使用される特殊な膜です。一般的な絶縁膜である二酸化シリコン（SiO2、比誘電率約4）よりも、比誘電率が低い特性を持つこの膜のことを指します。これは、多層配線による信号の遅延を防ぐために使用されます。この低誘電率膜には、有機物からポーラス（多孔質）材料など、さまざまな素材や薄膜が用いられており、その開発は常に進行しています。’
