「ICの製造工程で、加工寸法がより精巧になり、露光波長に近づいた結果、マスクパターンの形状や大きさ、または隣接パターンの影響で、マスクのパターンをウェハー上に完全に写し出せない現象が発生します。これを光学近接効果（OPE：Optical Proximity Effect)と呼びます。そのため、事前にこの変形を予測し、パターン形状に合わせてエッジに段差（ジョグ）を追加したり、別なパターン（ハンマヘッド、アシストバー、セリフなど）を組み入れたり、あるいはパターン幅を調節したりするなどの修正を行います。これをOPC（Optical Proximity Correction）と呼びます。」
