集束型イオンビーム技術。この技術は、イオンビームと試料の相互作用により、微視鏡の作用、研磨加工、堆積（デポジション）プロセス、イオン注入などの多機能を可能にする。使用されるイオン源には、ガリウム（Ga）が含まれる。具体的には、ビーム径を5〜10nmに集束させる装置は、フォトマスクのパターンを修正したり、ICの欠陥箇所を分析したり、高解像度観察、MEMSの微細加工に使用されていることがある。’
集束型イオンビーム技術。この技術は、イオンビームと試料の相互作用により、微視鏡の作用、研磨加工、堆積（デポジション）プロセス、イオン注入などの多機能を可能にする。使用されるイオン源には、ガリウム（Ga）が含まれる。具体的には、ビーム径を5〜10nmに集束させる装置は、フォトマスクのパターンを修正したり、ICの欠陥箇所を分析したり、高解像度観察、MEMSの微細加工に使用されていることがある。’
