プラズマCVDとは

化学的気相成長（Chemical Vapor Deposition、以下CVD）の一種である。このプロセスでは、反応容器と呼ばれる’チャンバ’の内部を減圧状態にし、高周波を通じてプラズマを生成する。このプラズマは、原料ガスの原子や分子を活性化し、反応させることで薄膜を形成する。

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