「酸化膜」とは一般的な言い方であり、特にシリコン酸化膜と言及することもあります。これはシリコン(Si)と酸素(O2)から形成される化合物(SiO2)であり、その特性として極めて安定していることが挙げられます。主に、ICのMOSトランジスタ内部に存在するゲート絶縁膜といった部分や、他多くの場所で役立つ存在として活用されています。
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